C-H.Shon, T.Makabe: "Modeling of N2/H2 capacitively coupled plasma for low-k material etching"IEEE Trans.on Plasma Science. (In print). (2004)
C-H.Shon, T.Makabe: "Modeling of N2/H2 capacitively coupled plasma for low-k material etching"IEEE Trans.on Plasma Science. (In print). (2004)
复制标题
C-H.Shon、T.Makabe：“用于低 k 材料蚀刻的 N2/H2 电容耦合等离子体的建模”IEEE Trans.on Plasma Science。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
