ドライエツチング用アルゴン高速原子ビーム源の残留イオン分析と中性化率評価

ドライエツチング用アルゴン高速原子ビーム源の残留イオン分析と中性化率評価
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干法刻蚀氩快原子束源残留离子分析及中和率评估

DOI:
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发表时间:
2006
期刊:
電子情報通信学会電子デバイス研究会技術報告 Vol.106, No.93
影响因子:
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通讯作者:
奥村次徳
奥村次徳
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
松坂則彦;須原理彦;松浦永悟;奥村次徳

文献摘要

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