Interface engineering of ultrathin topological insulator Bi_2Te_3 films on Si(111) substrate investigated by low-energy electron microscopy
Interface engineering of ultrathin topological insulator Bi_2Te_3 films on Si(111) substrate investigated by low-energy electron microscopy
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低能电子显微镜研究Si(111)衬底上超薄拓扑绝缘体Bi_2Te_3薄膜的界面工程
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Q.K.Xue
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.W.Liu;H.T.Yuan;N.Fukui;L.Zhang;Y.Iwasa;T.Hitosugi;M.W.Chen;T.Hashizume;Q.K.Xue
