Control of self-assembling formation of nanometer silicon dots by low pressure chemical vapor deposition
Control of self-assembling formation of nanometer silicon dots by low pressure chemical vapor deposition
复制标题
低压化学气相沉积控制纳米硅点的自组装形成
DOI：
10.1016/s0040-6090(00)00834-8
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发表时间：
2000
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
M. Hirose
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Miyazaki;Y. Hamamoto;E. Yoshida;M. Ikeda;M. Hirose
