Current Density in OS Process for TiO_2 Reduction

Current Density in OS Process for TiO_2 Reduction
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TiO_2 还原 OS 工艺中的电流密度

DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
Proc. 2008 Joint Symp. on Molten Salts (MS8)
影响因子：
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通讯作者：
Y. Oka and R. O. Suzuki
Y. Oka and R. O. Suzuki
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
K. Kobayashi;Y. Oka and R. O. Suzuki

文献摘要

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