Deposition of nanocrystalline diamond films on silicon nitride ceramic substrates using pulsed microwave discharges in Ar/H2/CH4 gas mixture
Deposition of nanocrystalline diamond films on silicon nitride ceramic substrates using pulsed microwave discharges in Ar/H2/CH4 gas mixture
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在 Ar/H2/CH4 混合气体中使用脉冲微波放电在氮化硅陶瓷基底上沉积纳米晶金刚石薄膜
DOI：
10.1016/j.diamond.2004.10.023
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发表时间：
2005
影响因子：
4.1
通讯作者：
Rui F. Silva
中科院分区：
文献类型：
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作者：
P. Bruno;F. Bénédic;A. Tallaire;F. Silva;F. Oliveira;M. Amaral;A. Fernandes;G. Cicala;Rui F. Silva
