K.Ino,I.Natori,A.Ichikawa and T.Ohmi: "In Situ Chamber Cleaning Using Halogenated-Gas-Plasmas Evaluated by Plasma-Parameter Extraction" Japanese Journal of Applied Physics. 33. 505-509 (1994)
K.Ino,I.Natori,A.Ichikawa and T.Ohmi: "In Situ Chamber Cleaning Using Halogenated-Gas-Plasmas Evaluated by Plasma-Parameter Extraction" Japanese Journal of Applied Physics. 33. 505-509 (1994)
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K.Ino、I.Natori、A.Ichikawa 和 T.Ohmi：“通过等离子体参数提取评估卤化气体等离子体的原位腔室清洁”日本应用物理学杂志。
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