K. Sawada et al.: "Low-Temperature Heteroepitaxial Growth of Si on sapphire by Disilane Gas-source Molecular Beam Epitaxy." J. of Crystal Growth,. Vol. 97,. 587-590 (1989)

K. Sawada et al.: "Low-Temperature Heteroepitaxial Growth of Si on sapphire by Disilane Gas-source Molecular Beam Epitaxy." J. of Crystal Growth,. Vol. 97,. 587-590 (1989)
复制标题

K. Sawada 等人:“通过乙硅烷气源分子束外延在蓝宝石上进行硅的低温异质外延生长”。

DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
--
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:

文献摘要

相似文献