Resonant Soft X-ray Reflectivity for the Chemical Analysis in Thickness Direction of EUV Resist
Resonant Soft X-ray Reflectivity for the Chemical Analysis in Thickness Direction of EUV Resist
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用于 EUV 光刻胶厚度方向化学分析的共振软 X 射线反射率
DOI：
10.2494/photopolymer.32.333
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发表时间：
2019
影响因子：
0.8
通讯作者：
Watanabe Takeo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ishiguro Takuma;Tanaka Jun;Harada Tetsuo;Watanabe Takeo
