Aggregation mechanism of Pd nanoparticles in l-cysteine aqueous solution studied by NEXAFS and AFM
Aggregation mechanism of Pd nanoparticles in l-cysteine aqueous solution studied by NEXAFS and AFM
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NEXAFS和AFM研究Pd纳米粒子在L-半胱氨酸水溶液中的聚集机制
DOI：
10.1016/j.apsusc.2012.04.123
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发表时间：
2012
影响因子：
6.7
通讯作者：
S. Yagi
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
C. Tsukada;S. Ogawa;Tsuyoshi Mizutani;G. Kutluk;H. Namatame;M. Taniguchi;S. Yagi
本文从微观角度研究了钯纳米粒子的生物相容性。因此，作为生物相容性的基础研究，我们通过NEXAFS测量和AFM观察，研究了Pd NPs表面吸附物和Pd NPs在Si衬底上浸渍半胱氨酸水溶液后的聚集机制。钯纳米粒子已被制造和沉积在硅晶片上的气体蒸发方法。从NEXAFS的测量结果来看，很明显，半胱氨酸硫醇盐和原子S存在于Pd NPs表面。原子力显微镜观察结果表明，钯纳米粒子发生了聚集。据认为，Pd纳米粒子的聚集发生的Pd纳米粒子在硅晶片上的迁移和交联反应。
We focus on the biocompatibility of Pd nanoparticles (NPs) from the point of microscopic view. Thus, as the basic research for the biocompatibility, we have investigated the adsorbates on the Pd NPs surface and the aggregation mechanism for the Pd NPs on Si substrate after dipping intol-cysteine aqueous solution by means of NEXAFS measurement and AFM observation. The Pd NPs have been fabricated and deposited on the Si wafer by the gas evaporation method. Judging from the results of NEXAFS measurement, it is clear that thel-cysteine thiolate and atomic S exist on the Pd NPs surface. The results of AFM observation show that the Pd NPs aggregate. It is thought that the aggregation of the Pd NPs occurs by both the migration of the Pd NPs on Si wafer and the cross-linked reaction.
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology (EJSSNT) 4
影响因子：
--
作者：
Hanliang Zhu;Hanliang Zhu;Hanliang Zhu;Hanliang Zhu;K.Maruyama;Hanliang Zhu;S.Yagi et al.
通讯作者：
S.Yagi et al.
SK-edge NEXAFS研究含硫氨基酸分子在过渡金属表面的吸附行为
DOI：
--
发表时间：
2003
期刊：
Nucl. Instrum. Meth B 199
影响因子：
--
作者：
T.Xie;A.Kimura;K.Miyamoto;S.Yamanaka;H.Fukuoka;S.Yamanaka;K.Inumaru;Y.Taguchi;Y.Muro;K.Umeo;Y.Muro;M.A.Avila;F.Iga;T.Ichikawa;S.Isobe;T.Ichikawa;H.Leng;R.Yagi;Y.Ikebuchi;Y.Yoshino;M.Sera;H.Tou;H.Tou;S.Matsuo;M.Ito;T.Suzuki;M.Ito;J.Hori;T.Takasaki;A.M.Gabovich;A.M.Gabovich;B.K.Cho;Y.Aiura;H.Sate;K.Horiba;K.Yaji;S.Qiao;Y.Takeda;H.Sugimoto;T.Shishidou;T.Oguchi;F.Ishii;T.Jo;D.J.Huang;H.B.Huang;H.Shimaihara;M.Miura;X.Chen;S.Shamoto;K.Inumaru;H.Fukuoka;K.Inumaru;T.Sasakawa;S.Yoshii;K.Sengupta;H.Matsuhata;H.Nakao;A.Schenck;A.Barla;P.Wang;N.Hanada;T.Ichikawa;Y.Makihara;M.Matsumura;U.Thisted;T.Tsurui;N.Ogita;T.Takasaki;H.Sato;A.Ino;K.Yamamoto;K.Hayashi;M.Higashiguchi;M.Arita;J.Okamoto;H.B.Huang;A.Tanaka;A.Tanaka;J.Chen;Z.Hu;P.Wang;H.Fujii;D.M.Chen;Y.Nakamori;S.Orimo;N.Hanada;K.Itoh;P.Wang;M.Ito;Y.Makihara;H.Fujii;藤井博信;市川貴之;市川貴之;藤井博信;S.Ishikawa;H.Momida;J.Nakamura;T.Ekino;T.Ekino;T.Ekino;T.Ekino;T.Takasaki;J.Hara;S.Higashitani;M.Yamamoto;J.Hara;T.Jo;T.Jo;藤 秀樹;S.Kobayashi;S.Kobayashi;M.Matsumura;M.Matsumura;H.Tou;H.Tou;H.Ishii;M.Taniguchi;K.Shimada;K.Shimada;S.-i.Fujimori;A.Kimura;T.Xie;K.Miyamoto;K.Takase;M.Koyama;H.Sato;S.A.Sardar;S.Yagi
通讯作者：
S.Yagi
基于SK-edge NEXAFS方法的液-固表面界面研究
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
Surface and Interface Analysis 36
影响因子：
--
作者：
Yagi;S.et al.
通讯作者：
S.et al.