Investigation of non-charging exposure conditions for insulating resist films in electron beam lithography
Investigation of non-charging exposure conditions for insulating resist films in electron beam lithography
复制标题
电子束光刻中绝缘抗蚀膜非充电曝光条件的研究
DOI：
10.35848/1347-4065/abf46a
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发表时间：
2021
影响因子：
1.5
通讯作者：
Kotera Masatoshi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kubo Kento;Kojima Kentaro;Kono Yoshinobu;Kotera Masatoshi
