Metal-Assisted Chemical Etching of Silicon Using Oxygen as an Oxidizing Agent
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DOI：
10.1149/ma2012-02/26/2371
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发表时间：
2012-06
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S. Yae;Y. Morii;M. Enomoto;N. Fukumuro;H. Matsuda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Yae;Y. Morii;M. Enomoto;N. Fukumuro;H. Matsuda
