Surface Electron Emision Lithography System baed on a planar type Si nanowire array ballistic electron source

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基于平面型硅纳米线阵列弹道电子源的表面电子发射光刻系统

DOI:
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发表时间:
2010
期刊:
Proc.SPIE Int.Meeting on Advanced Lithography 7637
影响因子:
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通讯作者:
A.Kojima
A.Kojima
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
M.Hamada;M.Toyofuku;T.Miyano;T.Nakafjima-Kambe;H.Uchiyama;N.Nomura.;豊福雅典;Masanori Toyofuku;Masanori Toyofuku;A.Kojima

文献摘要

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