A new metallic complex reaction etching for MRAM materials by a low-temperature neutral beam process
A new metallic complex reaction etching for MRAM materials by a low-temperature neutral beam process
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采用低温中性束工艺对 MRAM 材料进行新型金属配合物反应蚀刻
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Tomohiro Kubota and Seiji Samukawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
久保田智広;菊地良幸;野沢俊久;伊藤寿;久保百司;寒川誠二;Tomohiro Kubota and Seiji Samukawa
