NO 窒化 SiO2/SiC(11-20) 界面へのエキシマ紫外光照射の影響
NO 窒化 SiO2/SiC(11-20) 界面へのエキシマ紫外光照射の影響
复制标题
准分子紫外光照射对NO氮化物SiO2/SiC(11-20)界面的影响
DOI：
--
复制
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
渡部 平司
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
藤本 博貴;小林 拓真;染谷 満;岡本 光央;志村 考功;渡部 平司
