ION-ASSISTED AND ELECTRON-ASSISTED GAS-SURFACE CHEMISTRY - IMPORTANT EFFECT IN PLASMA-ETCHING
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DOI：
10.1063/1.326355
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发表时间：
1979-01-01
影响因子：
3.2
通讯作者：
WINTERS, HF
中科院分区：
文献类型：
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作者：
COBURN, JW;WINTERS, HF
