Plasma-enhanced atomic layer deposition of vanadium nitride
Plasma-enhanced atomic layer deposition of vanadium nitride
复制标题
氮化钒的等离子体增强原子层沉积
DOI：
10.1116/1.5109671
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发表时间：
2019
影响因子：
2.9
通讯作者：
Krick, Brandon A.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kozen, Alexander C.;Sowa, Mark J.;Ju, Ling;Strandwitz, Nicholas C.;Zeng, Guosong;Babuska, Tomas F.;Hsain, Zakaria;Krick, Brandon A.
