Highly transparent conductive ITO/Ag/ITO trilayer films deposited by RF sputtering
Highly transparent conductive ITO/Ag/ITO trilayer films deposited by RF sputtering
复制标题
射频溅射沉积高透明导电ITO/Ag/ITO三层薄膜
DOI:
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发表时间:
2017
期刊:
AIP Advances
影响因子:
1.6
通讯作者:
班士良
班士良
中科院分区:
材料科学4区
文献类型:
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作者:
任宁宇;朱俊;班士良
文献摘要
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