交流高電圧プラズマCVD法を用いたチューブ内面へのDLC成膜におけるガス温度特性
交流高電圧プラズマCVD法を用いたチューブ内面へのDLC成膜におけるガス温度特性
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交流高压等离子体CVD法在管内表面形成DLC膜时的气体温度特性
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
國竹 真司，今井 裕一，福江 紘幸，大澤 晋，藤井 泰宏，中谷 達行
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yasuhiro Fujii;Takashi Goyama;Genya Muraoka;Daiki Ousaka;Tatsuyuki Nakatani;Haruhito A. Uchida Susumu Oozawa;國竹 真司，今井 裕一，福江 紘幸，大澤 晋，藤井 泰宏，中谷 達行
