Response of beam focusing to plasma fluctuation in a filament-arc-type negative ion source
Response of beam focusing to plasma fluctuation in a filament-arc-type negative ion source
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灯丝弧型负离子源中束流聚焦对等离子体波动的响应
DOI：
10.35848/1347-4065/ab7473
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发表时间：
2020
影响因子：
1.5
通讯作者：
Osakabe M.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Haba Y.;Nagaoka K.;Tsumori K.;Kisaki M.;Takahashi K.;Nakano H.;Ikeda K.;Yoshimura S.;Osakabe M.
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