酸化インジウムスズ電子配線の高密度電流下における損傷機構の検討
酸化インジウムスズ電子配線の高密度電流下における損傷機構の検討
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高密度电流下氧化铟锡电子互连线损伤机理研究
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
藤﨑和弘
中科院分区：
文献类型：
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作者：
鈴木雄;笹川和彦;森脇健司;藤﨑和弘
