Effect of nitrogen doping on the electron field emission properties of chemical vapor deposited diamond films
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DOI：
10.1016/s0925-9635(00)00309-5
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发表时间：
2000-09
影响因子：
4.1
通讯作者：
C. Shih;K. S. Liu;I. Lin
中科院分区：
文献类型：
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作者：
C. Shih;K. S. Liu;I. Lin
