Site-specific evolution of surface stress during the room temperature oxidation of the Si(111)-(7 x7)
Site-specific evolution of surface stress during the room temperature oxidation of the Si(111)-(7 x7)
复制标题
Si(111)-(7 x7) 室温氧化过程中表面应力的位点特定演变
DOI：
--
复制
发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
K. Miki
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
N. T. Kinahan;D. E. Meehan;T. Narushima;S. Sachert;J. J. Boland;K. Miki
