光酸化ナノ多孔質SiO2膜を用いた薄膜イオンダイオードの作製
光酸化ナノ多孔質SiO2膜を用いた薄膜イオンダイオードの作製
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利用光氧化纳米多孔SiO2薄膜制作薄膜离子二极管
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
三ツ石方也
中科院分区：
文献类型：
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作者：
熊倉成水;石﨑裕也;山本俊介;三ツ石方也
