Super‐resolution bright‐field optical microscopy based on nanometer topographic contrast
Super‐resolution bright‐field optical microscopy based on nanometer topographic contrast
复制标题
基于纳米形貌对比度的超分辨率明场光学显微镜
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Chau
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Huang;H. Mong;Chau
通过使用期望最大化最大似然估计算法来提高最近开发的非干涉宽场光学轮廓仪的横向分辨率，我们获得了平面上纳米特征的超分辨率明场光学图像。光学轮廓仪采用365 nm光源和0.95数值孔径的普通物镜透镜。对于厚度为100 nm的物体，在没有荧光标记的情况下，可以在恢复图像中分辨出λ/7左右的横向特征。当前图像采集速率为0.1帧/秒，这受到光源亮度的限制。使用更明亮的光源，成像速度可以足够快，以便真实的实时观察纳米尺度的动态活动。Microsc. Res. Tech. 65：180-185，2004.© 2005 Wiley‐利斯公司
By using an expectation‐maximization maximum likelihood estimation algorithm to improve the lateral resolution of a recently developed non‐interferometric wide‐field optical profilometer, we obtain super‐resolution bright‐field optical images of nanometer features on a flat surface. The optical profilometer employs a 365‐nm light source and an ordinary objective lens of a 0.95 numerical aperture. For objects of 100 nm thickness, lateral features about λ/7 can be resolved in the restored images without fluorescence labeling. Current image acquisition rate is 0.1 frame/sec, which is limited by the brightness of the light source. With a brighter light source, the imaging speed can be fast enough for real‐time observation of dynamic activities in the nanometer scale. Microsc. Res. Tech. 65:180–185, 2004. © 2005 Wiley‐Liss, Inc.
DOI：
10.1364/josaa.15.002609
发表时间：
1998-10-01
影响因子：
1.9
作者：
Conchello, JA
通讯作者：
Conchello, JA
DOI：
10.1364/josaa.18.001062
发表时间：
2001-05-01
影响因子：
1.9
作者：
Markham, J;Conchello, JA
通讯作者：
Conchello, JA