高倉健一郎: "Improvement of the Electrical Properties of β-FeSi_2 Films on Si(001) by High Temperature Annealing"Japanese Journal of Applied Physics. (2000)
高倉健一郎: "Improvement of the Electrical Properties of β-FeSi_2 Films on Si(001) by High Temperature Annealing"Japanese Journal of Applied Physics. (2000)
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Kenichiro Takakura：“通过高温退火改善 Si(001) 上 β-FeSi_2 薄膜的电性能”日本应用物理学杂志 (2000)。
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