T.Kanaya et al.: "W Delta Doping in Si(1 0 0) Using Ultraclean Low-Pressure CVD"Appl.Surf.Sci.. Vol.212-213. 684-688 (2003)
T.Kanaya et al.: "W Delta Doping in Si(1 0 0) Using Ultraclean Low-Pressure CVD"Appl.Surf.Sci.. Vol.212-213. 684-688 (2003)
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T.Kanaya 等人：“使用超净低压 CVD 在 Si(1 0 0) 中进行 W Delta 掺杂”Appl.Surf.Sci.. Vol.212-213。
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