Mechanism of formation of ultrashallow thermal donors in carbon-doped oxygen-rich monocrystalline silicon preannealed to introduce hydrogen
Mechanism of formation of ultrashallow thermal donors in carbon-doped oxygen-rich monocrystalline silicon preannealed to introduce hydrogen
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预退火引入氢的碳掺杂富氧单晶硅中超浅热施主的形成机制
DOI：
10.7567/jjap.54.101302
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
A. Hara and T. Awano
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. Hattori;K. Miyamoto;H. Kanaya;S. Tsukamoto;H. Ishinishi;A. Hara and T. Awano
