Morphology-driven Stark shift switching in Ge/Si type-II heterointerfaces
Morphology-driven Stark shift switching in Ge/Si type-II heterointerfaces
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Ge/Si II 型异质界面中形态驱动的斯塔克位移转换
DOI：
10.4028/www.scientific.net/amr.893.39
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and S. Fukatsu
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Miyake;Y. Yasutake;and S. Fukatsu
