Study on a novel peeling of nano-particle (PNP) process for localized material removal on a 4H-SiC surface by controllable magnetic field (accepted)
Study on a novel peeling of nano-particle (PNP) process for localized material removal on a 4H-SiC surface by controllable magnetic field (accepted)
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通过可控磁场去除 4H-SiC 表面局部材料的新型纳米颗粒剥离 (PNP) 工艺研究（已录用）
DOI：
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Shotaro Kutomi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Thitipat Permpatdechakul;Panart Khajornrungruang;Keisuke Suzuki;Shotaro Kutomi
