T.Yokosuka et al.: "Development of New Tight-Binding Molecular Dynamics Program to simulate chemical-Mechanical Polishing Process"Japanese Journal of Applied Physics. (印刷中).

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T. Yokosuka 等人:“模拟化学机械抛光过程的新紧束缚分子动力学程序的开发”日本应用物理学杂志(正在出版)。

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