K.Sasaki et.al.: "Stoichiometry of TaーN film and its application for diffusion barrier in the Al_3Ta/TaーN/Si contact system." Jpn.J.Appl.Phys.Pt.1. 29,6. 1043-1047 (1990)
K.Sasaki et.al.: "Stoichiometry of TaーN film and its application for diffusion barrier in the Al_3Ta/TaーN/Si contact system." Jpn.J.Appl.Phys.Pt.1. 29,6. 1043-1047 (1990)
复制标题
K.Sasaki 等人：“Ta-N 薄膜的化学计量及其在 Al_3Ta/Ta-N/Si 接触系统中扩散阻挡层的应用”，Jpn.J.Appl.Phys.Pt.1。 1043-1047 (1990)
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
