垂直磁化纳米线中不同对称刻痕对磁畴壁振荡行为的影响

垂直磁化纳米线中不同对称刻痕对磁畴壁振荡行为的影响
复制标题

DOI:
--
复制
发表时间:
2018
期刊:
武汉科技大学学报
影响因子:
--
通讯作者:
甘章华
甘章华
中科院分区:
其他
文献类型:
--
作者:
陈昌威;卢志红;李玉婷;程明;方成;甘章华

文献摘要

相似文献