热壁外延制备InAs/Si(211)薄膜及其电学性能研究

热壁外延制备InAs/Si(211)薄膜及其电学性能研究
复制标题

DOI:
--
复制
发表时间:
2017
期刊:
人工晶体学报
影响因子:
--
通讯作者:
吴长树
吴长树
中科院分区:
其他
文献类型:
--
作者:
何利利;张明;郭治平;刘翔;吴长树

文献摘要

相似文献