Efficient generation of cold atoms towards a source for atom lithography
Efficient generation of cold atoms towards a source for atom lithography
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高效生成冷原子作为原子光刻源
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Hitoshi Kondo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ryuzo Ohmukai;Masaharu Hyodo;Masayoshi Watanabe;and Hitoshi Kondo
