絶縁基板上でのメタンプラズマを用いた 酸化グラフェンからのグラフェン生成Ⅱ～金属触媒を用いた高品質化・低温合成～
絶縁基板上でのメタンプラズマを用いた 酸化グラフェンからのグラフェン生成Ⅱ～金属触媒を用いた高品質化・低温合成～
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在绝缘基板上使用甲烷等离子体从氧化石墨烯生产石墨烯 II - 使用金属催化剂的高质量低温合成 -
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
斉木 幸一朗
中科院分区：
文献类型：
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作者：
小幡 誠司;佐藤 稔;赤田 圭史;斉木 幸一朗
