劣化エピラキシャル成長したSiGe膜の熱電特性?基板の影響?

劣化エピラキシャル成長したSiGe膜の熱電特性?基板の影響?
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退化的外延生长 SiGe 薄膜的热电性能?衬底的影响?

DOI:
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发表时间:
2006
期刊:
日本熱電学会第3解学術講演会論文集
影响因子:
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通讯作者:
佐々木
佐々木
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
的場;早平;佐々木

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