ニトロキシルラジカル置換ピロールとチオフェン類の電解共重合膜の作製とその評価
ニトロキシルラジカル置換ピロールとチオフェン類の電解共重合膜の作製とその評価
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硝酰基取代吡咯与噻吩电解质共聚物膜的制备及性能评价
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
小畑俊男
中科院分区：
文献类型：
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作者：
柏木良友;小野哲也;角田麻希子;高橋成周;小畑俊男
