Improved Femtosecond 3D Light Field Lithography With a Phase-Controlled Spatial Light Modulator
Improved Femtosecond 3D Light Field Lithography With a Phase-Controlled Spatial Light Modulator
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使用相控空间光调制器改进飞秒 3D 光场光刻
DOI：
10.1115/ht2022-85681
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Wen, Sy-Bor
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Jakkinapalli, Aravind;Wen, Sy-Bor
