H. TanaKa, Z. Chuanjie, M. Hirayama, A. Teramoto, S. Sugawa, T. Ohmi: "High Quality Silicon Oxide Film Formed by Diffusion Region PECVD and Oxgen Radical Treatment using Microwave-Excited High-Density"Extended Abstracts of the 2002 International Conferenc
H. TanaKa, Z. Chuanjie, M. Hirayama, A. Teramoto, S. Sugawa, T. Ohmi: "High Quality Silicon Oxide Film Formed by Diffusion Region PECVD and Oxgen Radical Treatment using Microwave-Excited High-Density"Extended Abstracts of the 2002 International Conferenc
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H. TanaKa、Z. Chuanjie、M. Hirayama、A. Teramoto、S. Sukawa、T. Ohmi：“利用微波激发高密度扩散区 PECVD 和氧自由基处理形成高质量氧化硅薄膜”扩展摘要
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