Fully strained low-temperature epitaxy of TiN/MgO(001) layers using high-flux, low-energy ion irradiation during reactive magnetron sputter deposition
Fully strained low-temperature epitaxy of TiN/MgO(001) layers using high-flux, low-energy ion irradiation during reactive magnetron sputter deposition
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在反应磁控溅射沉积过程中使用高通量、低能离子辐照进行 TiN/MgO(001) 层的全应变低温外延
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
I. Petrov
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Taeyoon Lee;H. Seo;H. Hwang;B. Howe;S. Kodambaka;J. Greene;I. Petrov
