Plasma-enhanced atomic layer deposition of titanium molybdenum nitride: Influence of RF bias and substrate structure
Plasma-enhanced atomic layer deposition of titanium molybdenum nitride: Influence of RF bias and substrate structure
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氮化钼钛的等离子体增强原子层沉积：射频偏压和衬底结构的影响
DOI：
10.1116/6.0001175
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发表时间：
2021
影响因子：
2.9
通讯作者：
Strandwitz, Nicholas C.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Chowdhury, Md. Istiaque;Sowa, Mark;Van Meter, Kylie E.;Babuska, Tomas F.;Grejtak, Tomas;Kozen, Alexander C.;Krick, Brandon A.;Strandwitz, Nicholas C.
