高アスペクト比深掘りトレンチの均一な電解めっきを可能とする超臨界流体薄膜堆積法で作製された低抵抗銅薄膜種層
高アスペクト比深掘りトレンチの均一な電解めっきを可能とする超臨界流体薄膜堆積法で作製された低抵抗銅薄膜種層
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采用超临界流体薄膜沉积方法制备的低电阻铜薄膜种子层，可实现高深宽比深沟槽的均匀电解电镀
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
三田 吉郎
中科院分区：
文献类型：
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作者：
宇佐美 尚人;太田 悦子;肥後 昭男;百瀬 健;三田 吉郎
