K.Takakura: "Control of the Conduction Type of Nondoped High Mobility β-FeSi_2 Films Grown from Si/Fe Multilayers by Change of Si/Fe Ratios"Japanese Journal of Applied Physics. Vol.39,No.8A. L789-L791 (2000)
K.Takakura: "Control of the Conduction Type of Nondoped High Mobility β-FeSi_2 Films Grown from Si/Fe Multilayers by Change of Si/Fe Ratios"Japanese Journal of Applied Physics. Vol.39,No.8A. L789-L791 (2000)
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K.Takakura：“通过改变 Si/Fe 比率控制由 Si/Fe 多层生长的非掺杂高迁移率 β-FeSi_2 薄膜的传导类型”，《日本应用物理学杂志》第 39 卷，第 8A 期。 2000)
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