同位体選択的赤外多光子解離されたフロロシランからの同位体濃縮Si薄膜の作製
同位体選択的赤外多光子解離されたフロロシランからの同位体濃縮Si薄膜の作製
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同位素选择性红外多光子解离氟硅烷制备富同位素硅薄膜
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
横山淳
中科院分区：
文献类型：
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作者：
大場弘則;鈴木裕;江板文孝;田口富嗣;山田洋一;山本博之;横山淳
