Influence of C atom concentration for acetylene production in a CH4/N2 afterglow

Influence of C atom concentration for acetylene production in a CH4/N2 afterglow
复制标题

DOI:
10.1016/s0042-207x(01)00151-8
复制
发表时间:
2001-05
期刊:
影响因子:
4
通讯作者:
A. Diamy;R. Hrach;V. Hrachová;J. Legrand
A. Diamy;R. Hrach;V. Hrachová;J. Legrand
中科院分区:
材料科学2区
文献类型:
--
作者:
A. Diamy;R. Hrach;V. Hrachová;J. Legrand

文献摘要

被引文献

相似文献