Dynamic Control of Particle Deposition in Evaporating Droplets by an External Point Source of Vapor.
Dynamic Control of Particle Deposition in Evaporating Droplets by an External Point Source of Vapor.
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DOI：
10.1021/acs.jpclett.7b02831
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发表时间：
2018-02-01
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Volpe G
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Malinowski R;Volpe G;Parkin IP;Volpe G
蒸发的固着液滴在表面上沉积颗粒对于印刷、薄膜沉积和自组装等多种现象非常重要。最终沉积物的形状取决于蒸发过程中液滴内的流动。这些流量通常在过程开始时由液滴及其环境的固有物理、化学和几何特性决定。在这里，我们展示了外部蒸汽点源对蒸发液滴内马兰戈尼流的确定性出现和实时控制。通过改变源位置，我们可以在空间和时间上调节这些流动，以可控的方式在表面上形成胶体图案。
The deposition of particles on a surface by an evaporating sessile droplet is important for phenomena as diverse as printing, thin-film deposition, and self-assembly. The shape of the final deposit depends on the flows within the droplet during evaporation. These flows are typically determined at the onset of the process by the intrinsic physical, chemical, and geometrical properties of the droplet and its environment. Here, we demonstrate deterministic emergence and real-time control of Marangoni flows within the evaporating droplet by an external point source of vapor. By varying the source location, we can modulate these flows in space and time to pattern colloids on surfaces in a controllable manner.
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影响因子：
16.6
作者：
通讯作者：
--
影响因子：
2.7
作者：
Araujo, N. A. M.;Dias, C. S.;Telo da Gama, M. M.
通讯作者：
Telo da Gama, M. M.
DOI：
10.1016/j.ijheatmasstransfer.2013.09.012
发表时间：
2014-01-01
影响因子：
5.2
作者：
Thokchom, Ashish Kumar;Gupta, Abhishek;Singh, Anugrah
通讯作者：
Singh, Anugrah
影响因子：
2.4
作者：
Deegan, RD;Bakajin, O;Witten, TA
通讯作者：
Witten, TA
DOI：
10.1021/je00019a016
发表时间：
1995-05-01
期刊：
JOURNAL OF CHEMICAL AND ENGINEERING DATA
影响因子：
--
作者：
VAZQUEZ, G;ALVAREZ, E;NAVAZA, JM
通讯作者：
NAVAZA, JM