Si貫通電極形成のためのディープエッチングと側壁酸化膜の形成
Si貫通電極形成のためのディープエッチングと側壁酸化膜の形成
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用于Si贯通电极形成的深蚀刻和侧壁氧化膜形成
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
et a1.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
池田晃裕;et a1.
