The Period Thickness Distribution on the Spherical Substrates Measured with Si Wafers Assemblies[in Japanese]
The Period Thickness Distribution on the Spherical Substrates Measured with Si Wafers Assemblies[in Japanese]
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用硅晶片组件测量球形基底的周期厚度分布[日语]
DOI:
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发表时间:
2006
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
T. Harada
中科院分区:
文献类型:
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作者:
N. Zurlo;et al.;M.Amoretti et al.;T. Tsuru;N.Zurlo et al.;T. Tsuru;W.Bertsche et al.;T. Tsuru;B.Juhasz et al.;A.Kellerbauer et al.;T. Hatano;M.Hori et al.;原田哲男;T. Harada