A. Suemasu, K. Nakahata, K. Ro, T. Kamiya, Fortmann and I. Shimizu: "In-Situ hydrogen plasma treatment for improved transport of (400) oriented polycrystalline silicon films ; submitted"Technical digest of 11th Int. Photovoltaic Science and Engineering Co
A. Suemasu, K. Nakahata, K. Ro, T. Kamiya, Fortmann and I. Shimizu: "In-Situ hydrogen plasma treatment for improved transport of (400) oriented polycrystalline silicon films ; submitted"Technical digest of 11th Int. Photovoltaic Science and Engineering Co
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A. Suemasu、K. Nakahata、K. Ro、T. Kamiya、Fortmann 和 I. Shimizu：“原位氢等离子体处理可改善 (400) 取向多晶硅薄膜的传输；提交”第 11 届 Int. 技术摘要。
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